SiGe Heterojunction Bipolar Transistors
            
暫譯: SiGe 異質接面雙極性晶體管
        
        Peter Ashburn
- 出版商: Wiley
 - 出版日期: 2003-12-02
 - 售價: $1,080
 - 貴賓價: 9.8 折 $1,058
 - 語言: 英文
 - 頁數: 288
 - 裝訂: Hardcover
 - ISBN: 0470848383
 - ISBN-13: 9780470848388
 
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商品描述
Featuring:
- Basic device physics concepts presented in a simple and concise way.
 - All the key technology innovations in detail, including polysilicon emitters, selective implanted collectors, selective and differential SiGe(C) epitaxy, and technology case studies.
 - Compact models of bipolar transistors, including Gummel Poon, Mextram and VBIC.
 - Overall bipolar technology, device and circuit optimisation.
 
SiGe Heterojunction Bipolar Transistors is an essential tool for practising process engineers and integrated circuit designers in the semiconductor, optical communications and wireless communications industries. University researchers, scientists and postgraduates students in microelectronics, semiconductors and electronic engineering will find this book an invaluable reference.
Professor Ashburn has worked as an industrial engineer, a consultant and a university professor and has accumulated a wealth of practical knowledge for incorporation in this book.
Table of Contents
Preface.
Physical Constants Properties of Silicon and Silicon-Germanium.
List of Symbols.
1. Introduction.
2. Basic Bipolar Transistor Theory.
3. Heavy Doping Effects.
4. Second-Order Effects.
5. High-Frequency Performance.
6. Polysilicon Emitters.
7. Properties and Growth of Silicon-Germanium.
8. Silicon-Germanium Heterojunction Bipolar Transistors.
9. Silicon Bipolar Technology.
10. Silicon-Germanium Heterojunction Bipolar Technology.
11. Compact Models of Bipolar Transistors.
12. Optimization of Silicon and Silicon-Germanium Bipolar Technologies.
References.
Index.
商品描述(中文翻譯)
在過去十年中,雙極技術的顯著發展使得矽-鍺異質接面雙極晶體管(SiGe HBT)從研究實驗室走向生產,進入無線電頻率技術的應用。這些發展使得 SiGe BiCMOS 晶體管能夠應對高頻無線和光通信應用,這些應用在過去僅能在 III/V 和 II/VI 器件中實現。本書首次將所有新發展匯集在一起,並以統一的方式描述矽雙極晶體管和 SiGe HBT 的物理學、材料科學和技術。
本書特色:
- 基本器件物理概念以簡單明瞭的方式呈現。
- 詳細介紹所有關鍵技術創新,包括多晶矽發射極、選擇性植入集電極、選擇性和差異性 SiGe(C) 外延生長,以及技術案例研究。
- 雙極晶體管的緊湊模型,包括 Gummel Poon、Mextram 和 VBIC。
- 整體雙極技術、器件和電路優化。
《SiGe 異質接面雙極晶體管》是半導體、光通信和無線通信行業中實踐過程工程師和集成電路設計師的必備工具。微電子學、半導體和電子工程領域的大學研究人員、科學家和研究生將會發現本書是一本寶貴的參考資料。
阿什本教授曾擔任工業工程師、顧問和大學教授,積累了豐富的實踐知識,並將其融入本書中。
目錄
前言
矽和矽-鍺的物理常數特性
符號列表
1. 介紹
2. 基本雙極晶體管理論
3. 重摻雜效應
4. 二次效應
5. 高頻性能
6. 多晶矽發射極
7. 矽-鍺的特性和生長
8. 矽-鍺異質接面雙極晶體管
9. 矽雙極技術
10. 矽-鍺異質接面雙極技術
11. 雙極晶體管的緊湊模型
12. 矽和矽-鍺雙極技術的優化
參考文獻
索引
