IC Mask Design: Essential Layout Techniques (美國精裝版)
暫譯: IC 掩模設計:基本佈局技術 (美國精裝版)

Christopher Saint, Judy Saint

  • 出版商: McGraw-Hill Education
  • 出版日期: 2002-05-24
  • 售價: $2,860
  • 貴賓價: 9.5$2,717
  • 語言: 英文
  • 頁數: 457
  • 裝訂: Hardcover
  • ISBN: 0071389962
  • ISBN-13: 9780071389969
  • 無法訂購

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商品描述

Description

Integrated Circuit Mask Design teaches integrated circuit (IC) processes, mask design techniques, and fundamental device concepts in everyday language. It develops ideas from the ground up, building complex concepts out of simple ones, constantly reinforcing what has been taught with examples, self-tests and sidebars covering the motivation behind the material covered.

 

Table of Content

Chapter 1: Digital Layout

Chapter 2: Standard Cell Techniques

Chapter 3: Analog Layout

Chapter 4: Parasitics

Chapter 5: Matching

Chapter 6: Noise Issues

Chapter 7: Floorplanning

Chapter 8: General Techniques

Chapter 9: Packaging

Chapter 10: Verification

Chapter 11: Data Formats

Case Study #1: CMOS Amplifier
Case Study #2: Bipolar Mixer
Beginnings
The Four Engineers
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商品描述(中文翻譯)

描述

《集成電路掩模設計》教授集成電路(IC)流程、掩模設計技術以及日常語言中的基本設備概念。它從基礎開始發展思想,將複雜的概念建立在簡單的概念之上,並不斷通過示例、自我測試和側邊欄來加強所教授的內容,這些側邊欄涵蓋了所涉及材料的動機。

內容表

第1章:數位佈局
第2章:標準單元技術
第3章:類比佈局
第4章:寄生效應
第5章:匹配
第6章:噪聲問題
第7章:樓層規劃
第8章:一般技術
第9章:封裝
第10章:驗證
第11章:數據格式
案例研究 #1:CMOS 放大器
案例研究 #2:雙極混頻器
開始
四位工程師
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