半導體製程與整合

吳永俊 , 孫崇哲 , 顏孝丞 等著

  • 出版商: CS滄海
  • 出版日期: 2023-10-01
  • 定價: $620
  • 售價: 9.5$589
  • 語言: 繁體中文
  • 頁數: 464
  • ISBN: 6269729165
  • ISBN-13: 9786269729166
  • 相關分類: 半導體
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商品描述

本書詳述了西元2010年後的實際量產之半導體技術,首先介紹基礎半導體知識,以及基礎的模組製程。此外,本書更以四百張以上圖例,詳細說明二維平面式電晶體之製程整合技術,以及三維鰭式電晶體之製程整合技術。先進的半導體製程技術,如受應力之矽通道、高介電閘極氧化層、金屬閘極、元件閘極設計考量、MOSFET 遷移率、先進的源極與汲極工程,都有詳細的說明與探討。材料分析技術,如掃描式電子顯微鏡、穿透式電子顯微鏡、X光光譜分析、拉曼光譜儀等,都涵蓋實例應用說明。半導體製程未來發展趨勢,包含有鰭式場效電晶體的微縮極限、環繞式閘極場效電晶體(GAAFET)、互補式場效電晶體 (CFET)、垂直傳輸場效電晶體、三維積體電路技術 (3D IC),皆有詳細說明。本書為半導體製程與整合相關知識內容之教科書,適合大專院校相關理工科系,也適合給從事半導體產業相關人員與相關領域專家參考。

作者簡介

吳永俊
現職:國立清華大學工程與系統科學系與半導體學院教授
研究領域與專長:半導體元件製程與整合、半導體元件物理與 TCAD 模擬、記憶體製程與整合;發表半導體元件製程與整合相關 SCI 期刊論文約 100 篇、英文教科書:3D TCAD Simulation for CMOS Nanoeletronic Devices、中文教科書:《三維 TCAD 模擬與 CMOS 奈米電子元件》
孫崇哲
學歷:國立清華大學工程與系統科學系博士
研究領域與專長:奈米級金氧半場效應電晶體、先進鰭式電晶體與環繞式閘極電晶體之開發、高遷移率通道工程、與半導體元件物理與 TCAD 模擬技術
顏孝丞
學歷:國立清華大學工程與系統科學系博士
研究領域與專長:奈米電子元件、鰭式場效電晶體、半導體元件物理與製程整合,與先進非揮發性記憶體

目錄大綱

第一章 半導體積體電路發展
第二章 基礎半導體材料
第三章 基礎半導體元件
第四章 氧化與加熱製程 
第五章 微影製程
第六章 擴散與離子佈植製程
第七章 蝕刻製程
第八章 介電質薄膜與化學氣相沉積
第九章 半導體金屬化製程
第十章 CMOSFET製程整合
第十一章 先進元件製程
第十二章 FinFET製程整合
第十三章 半導體材料分析技術
第十四章 半導體元件製程發展趨勢